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"兩高"發(fā)司法解釋 降低侵犯著作權罪的數(shù)量門檻
2007年04月05日 20:33 來源:中國新聞網(wǎng)

  中新社北京四月五日電 (記者 朱大強)最高人民法院、最高人民檢察院今天發(fā)布了《關于辦理侵犯知識產權刑事案件具體應用法律若干問題的解釋(二)》,明顯降低了侵犯著作權罪的數(shù)量門檻;明確了侵犯著作權罪“復制發(fā)行”的含義,統(tǒng)一侵犯著作權犯罪的罪名適用。

  據(jù)了解,根據(jù)中國近年來保護知識產權形勢的發(fā)展,以及司法實踐中出現(xiàn)的新情況、新問題,“兩高”的這一司法解釋在總結知識產權刑事司法保護實踐經(jīng)驗的基礎上,對“兩高”二00四年《關于辦理侵犯知識產權刑事案件具體應用法律若干問題的解釋》進行了補充和完善。

  《解釋(二)》還規(guī)范了緩刑適用,以列舉方式進一步明確了一般不適用緩刑的情形;在依法適用主刑的同時,加大罰金刑的適用力度,明確了罰金刑適用的幅度;落實法律關于知識產權刑事案件公訴和自訴的規(guī)定,切實保障被害人的刑事自訴權利;根據(jù)知識產權犯罪的特點,統(tǒng)一了單位犯罪與個人犯罪的定罪量刑標準。


 
編輯:余瑞冬】
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·《2007年中國保護知識產權行動計劃》發(fā)布(全文)
 


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